国巨在台湾提起诉讼外 亦将在美国及英国对光颉起诉求偿
更新时间:2020-02-15
国巨对光颉科技提出专利侵权诉讼。国巨今日向新竹地方法院起诉光颉,主张光颉产销之薄膜电阻产品ar0805及其他以非光蚀刻制程生产之薄膜电阻系列产品涉及侵害国巨之专利权,国巨因而受有高达12亿元之损害。国巨表示,除在台湾提起诉讼外,后续亦将在美国及英国对光颉起诉求偿。
国巨表示,智慧财产权为产业竞争最重要的资产,绝对不允许任何人以非法的方式加以侵害、剽窃,或进行不公平竞争。国巨每年投入高额预算进行产品研发及改善制程,并在国内及欧、美等地持续申请且获准被动元件产品设计及制程相关专利。国巨经由持续申请专利,一方面提升公司自身的研发能力及产品竞争力,另一方面也成功构筑国巨在被动元件产业界领先的地位、众多的智慧财产资产以及有效的专利屏障。
国巨表示,国巨目前拥有总数多达近两百件之国内外专利,并有数十件申请案于各国专利主管机关审查核准中;国巨日前并获得资策会评鉴认定,与台积电、联发科等公司并列台湾上市柜企业美国专利价值五十强企业之一,国巨研发能量及专利价值之强大由此可见一斑。
国巨表示,关于本件光颉侵害国巨之专利(台湾发明专利第194596号),为国巨于2000年提出申请,并于2004年获准之专利。国巨认为任何以国巨拥有专利之非光蚀刻制程所生产制造之薄膜电阻产品,基本上均违反国巨之专利,这项事实亦为业界所熟知;国巨为求慎重,在起诉前经过多方查证,并对光颉产品及制造过程进行严谨采证,同时委请专业鉴定机构进行分析比对,经充分确认侵权事证后,始提起本件专利诉讼。更有甚者,依国巨所掌握之证据,光颉疑似以直接挖角国巨公司技术及经营团队之方式,不法取得国巨关于生产原料、生产方法、生产流程、机器设备、产线安排等细节,以进行对国巨专利及制程技术的侵害。此种作法已经同时侵害了国巨的营业秘密以及台湾、美国、英国等地之专利权。
国巨表示,曾于今年9月3日发出通知函要求光颉停止侵害专利之行为,并与国巨协商赔偿损害事宜,但光颉并未给予正面回应。为保护国巨研发之技术及智慧财产权,并遏止此种产业内的不正当竞争手法,国巨决定以实际行动捍卫自身的智慧财产权。本件光颉之侵害专利行为,造成国巨蒙受逾新台币12亿元之损害。国巨秉持谨慎之态度,暂以新台币6亿元之损害赔偿额起诉,于将来诉讼进行中,视审理过程及证据之调查发展,会再适时向上追加损害赔偿之请求金额。同时,国巨后续亦将在美国及英国法院对光颉提起专利侵权诉讼,向光颉请求侵害专利之损害赔偿,并禁止其继续侵害国巨之专利权。且国巨仍将持续调查、搜集光颉及其客户、经销商、或代理商侵害国巨之专利权之事证,并适时进行相关法律行动,以确保国巨之权益。